詳細摘要: FTZKDM-998真空鍍膜機參數真空鍍膜技術基片升溫低,沉積速率高為主要特點,該沉積工藝在電導膜、光學膜、保護膜、裝飾膜等諸多方面都有廣泛應用
產品型號:所在地:更新時間:2023-03-02 在線留言污水處理設備 污泥處理設備 水處理過濾器 軟化水設備/除鹽設備 純凈水設備 消毒設備|加藥設備 供水/儲水/集水/排水/輔助 水處理膜 過濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設備
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